INTERNATIONAL PATENT: TOKYO ELECTRON LIMITED, 東京エレクトロン株式会社, THE UNIVERSITY OF TOKYO, 国立大学法人 東京大学 FILES APPLICATION FOR "SUBSTRATE PROCESSING METHOD"

GENEVA, Dec. 9 -- TOKYO ELECTRON LIMITED (3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo1076325), 東京エレクトロン株式会社 (東京都港区赤坂五丁目３番１号), THE UNIVERSITY OF TOKYO (3-1, Hongo 7-chome, Bunkyo-ku, Tokyo1138654), 国立大学法人　東京大学 (東京都文京区本郷七丁目３番１号) filed a patent application (PCT/JP2025/017636) for "SUBSTRATE PROCESSING METHOD" on May 15, 2025. With publication no. WO/2025/249178, the details related to the pa...