INTERNATIONAL PATENT: FUJIFILM CORPORATION, 富士フイルム株式会社, FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS U.S.A., INC., フジフイルム エレクトロニック マテリアルズ ユー．エス．エー．， インコーポレイテッド FILES APPLICATION FOR "CLEANING LIQUID FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, METHOD FOR CLEANING OBJECT TO BE PROCESSED AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE"

GENEVA, July 29 -- FUJIFILM CORPORATION (26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo1068620), 富士フイルム株式会社 (東京都港区西麻布２丁目２６番３０号), FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS U.S.A., INC. (6550 S Mountain Rd, Mesa, Arizona85212), フジフイルム　エレクトロニック　マテリアルズ　ユー．エス．エー．，　インコーポレイテッӠ...